半導(dǎo)體制造中EDI超純水系統(tǒng)維護(hù)方法及實(shí)踐要點(diǎn)
半導(dǎo)體制造對超純水(UPW)要求極為嚴(yán)苛,需滿足?電阻率≥18.2MΩ·cm、TOC≤1ppb、顆粒物≤5個/mL?等標(biāo)準(zhǔn)。?EDI技術(shù)優(yōu)勢?:取代傳統(tǒng)離子交換樹脂,實(shí)現(xiàn)連續(xù)產(chǎn)水、低化學(xué)藥劑消耗。?系統(tǒng)組成?:包括預(yù)處理單元、EDI模塊、循環(huán)管路、在線監(jiān)測儀表(電阻率、流量、壓力傳感器等)。二、關(guān)鍵維護(hù)方法與實(shí)踐操作1.?日常運(yùn)行..